等林本建出来,三人边吃边聊,卫向东正式向林本建发出邀请,希望他到大陆继续研究紫外光(euv)光刻,将来在众芯科技专门成立一个部门由他负责,同样可以给予众芯科技的股份。
“林先生,如果你还有什么要求,我们都可以谈。”卫向东的态度很诚恳。
林本建沉默了下开口说道:“卫先生,或许你不清楚,研发13.4纳米的极紫外光(euv)遥不可及而且耗费巨大,现在光刻机还卡在193纳米这个这个阶段。”
“我知道,极紫外光(euv)是光刻机发展的未来,而193纳米这道坎终将会被迈过。”卫向东笑回答道。
林本建听了笑了起来:“卫先生,你是个局外人,竟然比我们这些局内人还充满自信?”
“或许正是因为我是个局外人,所以和你看问题角度不同,光刻机停留在193纳米已经好几年了吧?所谓厚积薄发该到突破的时候。不是有一种叫什么浸润式光刻吗?我看那个法子就行。”卫向东说道。
“浸润式光刻?卫先生你也认为浸润式可行?!”林本建的声音突然变得激动起来。
不是我认为行,是因为历史最后证明这个法子行!
卫向东实在不明白这个林本建为何如此激动,旁边的张如京才告诉他,在80年代末期,林本建就提出随着芯片精度越来越高,光刻机的精度最终会遇到瓶颈,可以用浸润式原理解决这个问题。
不过当时业界正要准备1000 纳米的量产,后来林本建又帮ibm解决两个世代以后的技术,也就是500纳米;那时还有很多方法可用,不需要浸润式这种颇为复杂的办法。
直到九十年代初期,光刻机的研发卡到了193纳米,包括ibm、佳能等大型公司,都是朝着研发干式157nm光刻机的道路奋力前进,根本没有理睬到林本建的这个冷门的浸润式!这让他很是沮丧。
所以,今天从一个外行嘴里说出看好浸润时,林本建感到有些激动。
“卫先生,你怎么认为浸润式办法可行,如何液体穿透率不高问题?”
面对林本建急切的发问,卫向东愣住了。
我懂个屁啊......
我只不过是穿越前在网上无聊时候看过一些这样的文章,知道几个术语而已何况又过去了这么多年?
哎.....
早知道做做功课,在网上查查这方面的资料就好了,这不又到了2000年吗?已经有网了。
卫向东心里暗暗后悔。
看到卫向东略微尴尬的表情,林本建这才意识到,对方只是个企业家,科技方面纯粹就是个门外汉!”
没准这个浸润式也不知道从哪里看到的资料,觉得好玩而已。
林本建顿时有些失望,刚准备结束这个话题,突然又听到卫向东蹦出一句话:“可以用水呀......水不是很透明吗?”
“用水?水在193纳米波长的折射率是得到,但问题在于157纳米波长下水的折射率是量不出来的,因为不透光......”林本建立刻反驳。
“为啥非要用157纳米?那就用193纳米下的折光呗。”卫向东小心翼翼回答道。
“你不懂,现在的主流是157纳米......”林本建随口回答了一句。
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